无机平台-等离子增强原子层沉积系统
仪器简介
SYSKEY ALD-SC6-PE等离子增强原子层沉积系统是一种高性能的薄膜沉积设备，专为高精度、高均匀性和低温沉积而设计。该系统结合了等离子体增强技术，能够显著提高薄膜的质量和沉积效率，同时降低沉积温度，适用于多种材料和基底
仪器型号
SYSKEY ALD-SC6-PE
技术参数
1. 前驱物管路：配备六路前驱物管路，每路配置单独专用阀门；
2. 前驱物管路加热温度范围： Rt ~120 ℃；气体管路配备 Ar 、O2、N2、 NH3四路气路，独立的质量流量计监控；
3. 样品台：可承载6英寸基片；可加热到400℃，内圈外圈双加热器。
2. 前驱物管路加热温度范围： Rt ~120 ℃；气体管路配备 Ar 、O2、N2、 NH3四路气路，独立的质量流量计监控；
3. 样品台：可承载6英寸基片；可加热到400℃，内圈外圈双加热器。
仪器附件
恒温水浴系统，水冷机，空压机
主要功能
能够实现高精度的原子层薄膜沉积，厚度均匀性可达±1%以内，适用于多种材料包括氧化物、氮化物和金属等。利用等离子体增强技术，该系统可在较低温度下进行沉积，适合热敏材料和柔性基底。系统支持多种前驱体和反应气体，可定制化配置，满足不同应用需求，并且具备多腔体互联功能，实现原位多层膜沉积。此外，该系统采用机电一体设计，配备直观的交互界面，提供“一键沉积”功能，实现从真空抽取到薄膜沉积的全自动操作，操作简便且运行稳定。
主要应用
SYSKEY ALD-SC6-PE等离子增强原子层沉积系统广泛应用于半导体薄膜制备（如高K介电材料、栅极绝缘层）、光学薄膜（如透明导电膜、抗反射膜）、生物医学涂层（如生物传感器、植入器件）、能源领域（如太阳能电池、锂离子电池）、材料科学（如纳米结构制备、表面改性）以及微机电系统（MEMS）等领域。
联系方式
